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一、粉体包覆核心参数：
产地类别：国产原子层沉积系统（ALD）
衬底尺寸：10g-1000g粉末
工艺温度：RT-300℃
前驱体数：2组反应气体8组液态或固态反应前驱体
重量：300KG
尺寸(WxHxD)：1150*1030*1850mm
均匀性：在粉末表面实现均匀原子层包覆,包覆均一性<3%
二、原子层沉积（Atomiclayerdeposition)是通过将气相前驱体脉冲交替地通入反应腔体内并在沉积基体上化学吸附并反应而形成沉积膜的一种技术，具有自限性和自饱和。原子层沉积技术主要应用是在各种尺寸和形状的基底上沉积高精度、无针孔、高保形的纳米薄膜。
三、粉体包覆产品描述：
厦门韫茂科技公司的GM系列自动粉末原子层沉积设备它可以在微纳米粉体上实现均匀可控的原子层沉积或分子层沉积生长，GM1000的反应室可自动运行ALD(原子层沉积)或MLD(分子层沉积)，设备配有独立控制的300℃完整加热反应腔室系统，保证工艺温度均匀。该系统具有粉末样品桶、动态粉末流化机构、全自动温度控制、ALD前驱体源钢瓶、自动温度控制阀、工业级安全控制，以及现场RGA、QCM、臭氧发生器、手套箱等设计选项。是先进能源材料、催化剂材料、新型纳米材料研究与应用的最佳研发工具。
粉体包覆
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